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  • 產(chǎn)品詳情
    • 產(chǎn)品名稱:SAMCO ICP 蝕刻設(shè)備 RIE-400iP

    • 產(chǎn)品型號(hào):
    • 產(chǎn)品廠商:SAMCO薩姆肯
    • 產(chǎn)品價(jià)格:0
    • 折扣價(jià)格:0
    • 產(chǎn)品文檔:
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    簡單介紹:
    RIE-400iP 是 Max.4“ 晶圓的負(fù)載鎖定蝕刻設(shè)備,用于各種半導(dǎo)體膜和絕緣膜的高精度、高均勻性。
    詳情介紹:

    概述

    RIE-400iP 是 Max.4“ 晶圓的負(fù)載鎖定蝕刻設(shè)備,用于各種半導(dǎo)體膜和絕緣膜的高精度、高均勻性。 放電形式采用獨(dú)特的龍卷風(fēng)線圈感應(yīng)耦合等離子體,可產(chǎn)生均勻的高密度等離子體。 此外,您還可以根據(jù)加工材料和加工內(nèi)容選擇合適的等離子源。

    特點(diǎn)

    新型ICP源「HSTC?: Hyper Symmetrical Tornado Coil

    射頻功率(2 kW 或更高)可高效、穩(wěn)定地應(yīng)用,以實(shí)現(xiàn)良好的均勻性。

    大流量排氣系統(tǒng)

    通過采用與反應(yīng)室直接相連的排氣系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)了從小流量、低壓區(qū)域到大流量、高壓范圍的各種工藝窗口。

    支持端點(diǎn)監(jiān)視器

    它支持干涉型和發(fā)光光譜端點(diǎn)監(jiān)視器,可在目標(biāo)薄膜厚度下進(jìn)行端點(diǎn)檢測。

    易于維護(hù)的設(shè)計(jì)

    TMP(渦輪分子泵)和高頻電源單元化,便于更換。

    應(yīng)用示例

    ? 化合物半導(dǎo)體(如 GaN、GaAs 和 InP)的高精度蝕刻

    半導(dǎo)體激光器和光子晶體的制造

    選項(xiàng)

    干擾端點(diǎn)監(jiān)視器

    可實(shí)現(xiàn)高精度的端點(diǎn)檢測,并控制蝕刻深度。

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