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代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測厚儀、相位差膜設(shè)備等）、USHIO牛尾點(diǎn)光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺(tái)階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機(jī)、NEWKON新光、TOKISANGYO東機(jī)產(chǎn)業(yè)、tokyokeiso東京計(jì)裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機(jī)、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛睦威地震儀、HOKUYO北陽電機(jī)、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.
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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
RIE-400iP 是 Max.4“ 晶圓的負(fù)載鎖定蝕刻設(shè)備，用于各種半導(dǎo)體膜和絕緣膜的高精度、高均勻性。
詳情介紹：
概述
RIE-400iP 是 Max.4“ 晶圓的負(fù)載鎖定蝕刻設(shè)備，用于各種半導(dǎo)體膜和絕緣膜的高精度、高均勻性。 放電形式采用獨(dú)特的龍卷風(fēng)線圈感應(yīng)耦合等離子體，可產(chǎn)生均勻的高密度等離子體。 此外，您還可以根據(jù)加工材料和加工內(nèi)容選擇合適的等離子源。
特點(diǎn)
新型ICP源「HSTC?： Hyper Symmetrical Tornado Coil」
高射頻功率（2 kW 或更高）可高效、穩(wěn)定地應(yīng)用，以實(shí)現(xiàn)良好的均勻性。
大流量排氣系統(tǒng)
通過采用與反應(yīng)室直接相連的排氣系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了從小流量、低壓區(qū)域到大流量、高壓范圍的各種工藝窗口。
支持端點(diǎn)監(jiān)視器
它支持干涉型和發(fā)光光譜端點(diǎn)監(jiān)視器，可在目標(biāo)薄膜厚度下進(jìn)行端點(diǎn)檢測。
易于維護(hù)的設(shè)計(jì)
TMP（渦輪分子泵）和高頻電源單元化，便于更換。
應(yīng)用示例
? 化合物半導(dǎo)體（如 GaN、GaAs 和 InP）的高精度蝕刻
半導(dǎo)體激光器和光子晶體的制造
選項(xiàng)
干擾端點(diǎn)監(jiān)視器
可實(shí)現(xiàn)高精度的端點(diǎn)檢測，并控制蝕刻深度。
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