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紫外可見光光度計
產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
除了可以進行高精度薄膜分析的橢圓偏振光譜儀之外，我們還通過實現(xiàn)自動可變測量機制來支持所有類型的薄膜。除了常規(guī)的旋轉(zhuǎn)光子檢測器方法之外，通過為延遲板提供自動連接/分離機制，還提高了測量精度。
詳情介紹：
特殊長度
- 可以在紫外可見光（300-800 nm）波長范圍內(nèi)測量橢偏參數(shù)。
- 可以進行納米級的多層薄膜厚度分析
- 通過多通道光譜儀可快速測量橢圓偏振光，可測量400通道或更多通道
- 通過可變反射角測量支持對薄膜的詳細分析
- 通過創(chuàng)建光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫并添加配方注冊功能來提高可操作性。
測量項目
- 橢偏參數(shù)（tanψ，cosΔ）測量
- 光學(xué)常數(shù)（n：折射率，k：消光系數(shù)）分析
- 膜厚分析
測量目標(biāo)
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半導(dǎo)體晶片
柵極氧化物薄膜，氮化物膜
SiO 2，Si x O y，SiN，SiON，SiN x，Al 2 O 3，SiN x O y，多晶硅，ZnSe，BPSG，TiN的
光學(xué)常數(shù)（波長色散）抵抗 -
化合物半導(dǎo)體
Al x Ga （1-x）作為多層膜，非晶硅 -
FPD
取向膜 -
各種新材料
DLC（類金剛石），超導(dǎo)薄膜，磁頭薄膜 -
光學(xué)薄膜
TiO 2，SiO 2，減反射膜 -
在每個波長下的光刻場n，k評估，例如g線（436 nm），h線（405 nm），i線（365 nm）
- 產(chǎn)品信息
- 原則
- 規(guī)格
- 測量例
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多通道光譜儀MCPD-9800 / 6800 |
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光譜干涉晶圓測厚儀SF-3 |
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