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紫外可見光光度計
分光干渉式晶圓膜厚儀 SF-3
即時檢測
WAFER基板于研磨制程中的膜厚
玻璃基板于減薄制程中的厚度變化
(強酸環(huán)境中)
產(chǎn)品特色
非接觸式、非破壞性光學(xué)式膜厚檢測
采用分光干涉法實現(xiàn)高度檢測再現(xiàn)性
可進行高速的即時研磨檢測
可穿越保護膜、觀景窗等中間層的檢測
可對應(yīng)長工作距離、且容易安裝于產(chǎn)線或者設(shè)備中
體積小、省空間、設(shè)備安裝簡易
可對應(yīng)線上檢測的外部信號觸發(fā)需求
采用*適合膜厚檢測的獨自解析演算法。(已取得**)
可自動進行膜厚分布制圖(選配項目)
規(guī)格式樣
|
|
SF-3 |
|---|---|
|
膜厚測量范圍 |
0.1 μm ~ 1600 μm※1 |
|
膜厚精度 |
±0.1% 以下 |
|
重復(fù)精度 |
0.001% 以下 |
|
測量時間 |
10msec 以下 |
|
測量光源 |
半導(dǎo)體光源 |
|
測量口徑 |
Φ27μm※2 |
|
WD |
3 mm ~ 200 mm |
|
測量時間 |
10msec 以下 |
※1 隨光譜儀種類不同,厚度測量范圍不同
※2 *小Φ6μm
2.如有必要,請您留下您的詳細聯(lián)系方式!
